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Keramische Heizelemente

aus heißgepresster Siliziumnitridkeramik


Chipheizer

Miniaturheizer aus Siliziumnitrid

Produkte / Keramische Heizelemente / Chipheizer

Chipheizer


Beschreibung

Chipheizer aus Siliziumnitrid sind typischerweise rechteckig, innerhalb unseres Matrizendurchmessers von 400 mm können verschiedene Maße und Losgrößen hergestellt werden. Die Eigenschaften der Keramik und die geringe Masse ermöglichen schnelle Aufheizraten, eine homogene Temperaturverteilung und sehr gute Regelgenauigkeit. Kleine Heizelemente können geregelt mit einer sehr hohen Oberflächenleistung betrieben werden und erlauben hohe Prozesstaktzeiten. Aufgrund der geringen Wärmedehnung der Keramik bleibt die Oberfläche auch bei Temperaturwechselbetrieb im Vergleich zu Metallen sehr eben. Die hohe Festigkeit des heißgepressten Siliziumnitrids erlaubt eine hohe Beanspruchung (z. B. bei Druckbelastung) bei sehr geringem Verschleiß. Wir bieten Miniaturheizer für den Betrieb an Luft bis 500 °C und mit kalter Zone bis 1 000 °C an.


Kundenspezifisches Design

Unser hauseigenes Design bietet eine Anpassung der Größe und Bauform und Leistung, sowie das Einbringen von Bohrungen für Halterung und Temperaturregelung oder Ansaugleitungen, außerdem sind gelaserte Vakuumrillen möglich. Die Chipheizer werden flachgeschliffen, können aber für besondere Anforderungen auch auf < 10 μm Ebenheit bearbeitet werden. Ebenfalls sind abweichende Konturen möglich, die der Form des zu beheizenden Bauteils angepasst werden können. Diese können als Spitze (Pointheater) oder abgesetzte Fläche ausgeführt werden. Heizflächen < 1 mm2 können somit realisiert werden. Miniaturheizer können für den Betrieb an Kleinspannung ausgelegt werden.


Produktauswahl

Folgend nur eine kleine Auswahl unserer Produkte. Weitere Ausführungen können Sie gerne über unser Produktanfrageformular erfragen.

Abmaße Beheizter Bereich Tmax
10 x 4,0 x 4,0 mm 10 x 4,0 x 4,0 mm 500 °C
36 x 35 x 3,5 mm 36 x 35 x 3,5 mm 500 °C

Vorteile

Welche Vorteile haben Sie?

  • Sie können die Wärme genau an die Stelle bringen wo sie benötigt wird
  • Schnelle Aufheizraten reduzieren Prozesszeiten und verkürzen Taktzeiten
  • Die inerte und chemisch resistente Keramik bringt keine Kontamination in ihre Anlagen
  • Hohe Oberflächenleistung von bis zu 150 W/cm2 möglich

Anwendungsbereiche

  • Halbleiterherstellungsanlagen (z. B. Bonder)
  • Handling von Bauteilen, Bestückung von Leiterplatten
  • Lötanlagen und Entlötvorrichtungen
  • Düsenbeheizungen
  • Verpackungsmaschinen (z. B. punktuelles Verschweißen)
  • Medizintechnik
  • Maschinenbau
  • Werkzeugbeheizung